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茶山手機殼LOGO曝光顯影設計的行業須知「利成感光」

發布時間:2021-08-30 15:23  

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首先曝光顯影拋光兩條美工線中間區域,再拋光美工線兩邊。注意美工線的地方離風輪兩邊的距離為.cm)拋光周的時候傾斜°-°進行拋光作業。除雜質步驟:將產品放入池中除去表面的蠟,再利用靜電除去產品表面上的塵粒。中拋步驟:裝上拋光風輪利用廢砂片把風輪表面修復平整,把藍蠟打到修復平整的風輪上,把粗拋好的拋光產品反面向下放在拋光治具上進行拋光作業。所以經過沖刷后,LOGO的圖案就會顯現出來,不要的部分被去除。曝光顯影工藝流程中拋光工序風輪加青蠟更改為風輪加青臘,可解決拋光后出現的不良現象。手機殼LOGO曝光顯影設計


曝光顯影把菲林膜與底版在曬版機內壓緊,曝光顯影加工,用碳精燈或氙燈進行曝光。網框與光源的距離為50-60厘米,曝光時間2-6分鐘。噴制刻版漆膜紙:將描圖紙用漿糊粘在平整的木版上,用排筆把橡膠水1份(體積比),q油1份調好,均勻地涂在紙面上,⑶轉貼:雕刻圖形之后,便可以往事先做好的絲網框上轉貼了。方法是把刻好的漆膜放在網框下面壓緊,用棉花沾少許稀料在上面輕輕復擦,至漆膜與絲網粘牢為止,顯影:曝光后,將菲膜放在平板上,曝光顯影廠,用溫水浸潤網膜1-2分鐘,用水噴頭噴淋,用水溶去非感光部分手機殼LOGO曝光顯影設計