PACVD硬質涂層真空鍍膜機系統的特點：

（1）2個等離子激發源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場非平衡磁控管濺射（3）帶有一個前門的六角形真空室，保證一個潔凈的環境（4）干式真空系統設計安裝在一個單獨的空間，處理高吞吐量的碳氫化合物和其他工藝氣體（5）基材和導電與非導電涂層及組合原位清洗的離子激發系統（6）可選擇的等離子體激發模式和頻率使等離子的密度和能量適應基材增壓特性，以小壓強進行電離作用（8）單獨的PACVD工藝中不強制轉動的時候，一種行星式轉動也能夠使濺射涂層統一沉積（9）特別是在PACVD過程特殊設計的進氣系統能夠優化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調節，保證了涂層系統的高可靠性（11）iFIX基礎的控制系統，易于批次、配方和報警處理（12）所有數據的采集，保證良好的過程控制。工藝過程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運行過程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶可自行設置進入控制系統的權限，以保證系統的質量和安全性

真空鍍膜設備_磁控濺射鍍膜設備技術應用

蒸發和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機的一切優點，又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實現自動生產線，是替代傳統濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設備。本機鍍部分產品可不做底油。

真空鍍膜設備機主要特點配用改進型高真空排氣系統，抽速快、、節電、降噪和延長泵使用壽命;實現蒸發、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠;蒸發鍍應用新型電極引入裝置，接觸電阻小且可靠;磁控濺射應用鍍膜材料廣泛，各種非導磁的金屬、合金均可作鍍料;結構緊湊、占地面積小;磁控、蒸發共用兩臺立式工件車，操作方便。

(或雙門蒸發、磁控兩用機)至成真空科技業務范圍真空鍍膜成套設備與技術，真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件，真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。

真空鍍膜設備故障診斷與排除、老產品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術研究，咨詢服務。新技術、新設備、新工藝至成真空科技新開發的磁控、蒸發多用鍍膜機，配用改進型高真空抽氣系統及全自動控制系統，抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應用在光學、電子、通訊、航空等領域。

磁控濺射真空鍍膜機的主要用途有哪些

磁控濺射技術在市場上運用非常廣泛，也受到了眾多商家的采納，自然磁控濺射真空鍍膜機也被眾多商家認可，下面至成真空小編為大家詳細介紹一下磁控濺射真空鍍膜機的主要用途：

（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉換效率。

（2）裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。

（3）在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機

（4）化學氣相沉積（CVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

（5）在光學領域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是透明導電玻璃目前廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。

（6）在機械加工行業中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術自問世以來得到長足發展，能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能，從而大幅度地提高涂層產品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被大量應用的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用