真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。背壓法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高，能實(shí)現(xiàn)小型密封容器產(chǎn)品的泄漏檢測(cè)，可以進(jìn)行批量化檢測(cè)。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái)，在罩內(nèi)充滿(mǎn)一定濃度的氦氣，可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。

真空法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高，可以，能實(shí)現(xiàn)大容器或復(fù)雜結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的檢漏。

真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現(xiàn)一個(gè)大氣壓差的漏率檢測(cè)，不能準(zhǔn)確反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。

真空法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)主要有QJ3123-2000《氦質(zhì)譜真空檢漏方法》、GB /T 15823-2009《氦泄漏檢驗(yàn)》，主要應(yīng)用于真空密封性能要求，但不帶壓工作的產(chǎn)品，如空間活動(dòng)部件、液氫槽車(chē)、環(huán)境模擬設(shè)備等。

為試漏區(qū)配備足夠的通風(fēng)條件

檢漏氣體氦/ 氫如果泄露，就會(huì)像氣球一樣飛到試漏區(qū)的室頂，并逐漸漂滿(mǎn)整個(gè)試漏區(qū)。使用壓縮空氣將元件表面的少量殘留氦氣吹掃干凈之后，再利用質(zhì)譜儀檢測(cè)元件表面泄露的氦氣。縱然所有連接件是完全密閉的，但在連接或拆卸的過(guò)程中難免會(huì)釋放少量的檢漏氣體。因此，為試漏區(qū)配備足夠的通風(fēng)條件是非常重要的。由于兩種檢漏氣體均有向上運(yùn)動(dòng)的趨向，建議從底部送入新鮮空氣和從頂部排放氣體至室外。

氦質(zhì)譜檢漏器的主要性能指標(biāo)

1.較小檢漏率: 即氦質(zhì)譜檢漏器能檢測(cè)到的較小泄漏率。

2.響應(yīng)清除時(shí)間: 當(dāng)一定流量的勘探氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后，電子系統(tǒng)和真空系統(tǒng)需要一定的響應(yīng)時(shí)間，漏率指示器可以達(dá)到較大值，漏率指示器不能立即恢復(fù)到零，需要一定時(shí)間下降，通常由于氦的吸附和解吸，去除時(shí)間略長(zhǎng)于響應(yīng)時(shí)間。

3.啟動(dòng)時(shí)間: 氦質(zhì)譜泄漏探測(cè)器開(kāi)啟電源和能夠探測(cè)到泄漏之間的時(shí)間